真空腔室Ф246×228mm,304優質不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優成
真空規全量程真空規,上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統PLC+觸摸屏智能控制系統1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調,旋轉:0-20r/min可調,可加熱至300℃
膜厚監控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
樣品臺通常指的是用于展示或測試物品的臺面,廣泛應用于實驗室、展覽、商店等場所。在實驗室中,樣品臺可以用來放置化學試劑或生物樣本,以便進行觀察和實驗。在展覽中,樣品臺用于展示產品,以吸引觀眾的注意。商店中的樣品臺則用于展示商品,方便顧客查看和選擇。
如果你有更具體的問題或者需要了解樣品臺的某個方面,請告訴我!
磁控濺射是一種廣泛應用于薄膜沉積的技術,主要用于在基材上沉積金屬、絕緣體或半導體材料。其功能和優勢包括:
1. **量薄膜**:磁控濺射能夠沉積出均勻、致密且質量優良的薄膜,適用于材料,包括金屬、合金和氧化物等。
2. **可控性強**:通過調節濺射參數(如氣壓、電源功率、磁場強度等),可以控制薄膜的厚度和性質。
3. **低溫沉積**:與其他沉積技術相比,磁控濺射通常可以在較低溫度下進行,這對于熱敏感材料尤為重要。
4. **多種材料的沉積**:可以在不同類型的基材上沉積材料,適用范圍很廣。
5. **高沉積速率**:由于利用了磁場增強離子化過程,磁控濺射的沉積速率通常較高,能夠提高生產效率。
6. **良好的附著力**:沉積的薄膜與基材之間具有良好的附著力,適合用于多種應用。
7. **均勻性和厚度控制**:可以實現大面積的均勻沉積,適用于需要大尺寸薄膜的應用。
磁控濺射廣泛應用于光電器件、太陽能電池、薄膜電路、保護涂層等領域。

離子濺射儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造和表面分析等領域的設備,其主要特點包括:
1. **高精度**:離子濺射儀能夠在原子或分子層級上進行物質的去除和沉積,具有的控制精度,適用于微米和納米級別的加工。
2. **多功能性**:該儀器可用于薄膜的沉積、表面清洗、材料分析等多種用途,適應性強。
3. **層次控制**:可以實現對材料沉積厚度的控制,可以逐層沉積不同材料,適合制備多層膜結構。
4. **較強的適應性**:離子源與靶材的組合可以根據需要進行調整,使得該儀器可以處理多種不同類型的材料。
5. **真空環境**:離子濺射在真空環境中進行,有助于減少氣體分子對沉積過程的干擾,提高沉積質量。
6. **可調節能量**:離子源可以調節離子的能量,從而控制濺射過程中的粒子能量,有利于改善沉積膜的性質。
7. **低溫沉積**:相較于傳統的熱沉積方法,離子濺射在較低溫度下即可進行,能夠減少熱敏感材料的損傷。
8. **表面改性**:通過選擇合適的離子種類和能量,可以對材料表面進行改性,如提高表面硬度或改變表面化學性質。
總的來說,離子濺射儀因其高精度、多功能和良好的適應性,在現代材料科學和工程中發揮著重要作用。

小型磁控濺射鍍膜機是一種常用于材料表面處理的設備,它的主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:能夠在基材表面沉積金屬、絕緣體或半導體薄膜,廣泛應用于電子、光學和材料科學等領域。
2. **均勻性**:通過磁控濺射技術,能夠實現良好的膜厚均勻性和致密性,有助于提高薄膜性能。
3. **可調性**:用戶可以根據不同的需求調整沉積參數,如功率、氣壓和氣體成分,以獲得的沉積效果。
4. **多種材料選擇**:支持多種靶材的使用,能夠沉積不同材料的薄膜,如鋁、銅、氮化硅等。
5. **快速成膜**:小型磁控濺射鍍膜機相對快速,適合小批量實驗或研發。
6. **低溫沉積**:允許在較低溫度下進行沉積,有助于減少基材的熱負荷,適合對熱敏感材料的處理。
7. **簡單操作**:由于其結構緊湊且操作相對簡單,適合實驗室和小規模生產使用。
這些功能使得小型磁控濺射鍍膜機在科研、工業和教學等多個領域中得到廣泛應用。

濺射靶是一種用于薄膜沉積技術的設備,廣泛應用于物理、材料科學和半導體工業。其主要功能包括:
1. **物質沉積**:通過濺射技術將靶材(如金屬、合金或氧化物)中的原子或分子打出,并在基材表面形成薄膜。
2. **薄膜均勻性**:濺射靶能夠在較大的面積上實現均勻的薄膜沉積,這對許多應用至關重要。
3. **控制膜厚度**:通過調整濺射時間、功率和氣氛等參數,可以控制沉積膜的厚度。
4. **材料多樣性**:能夠處理多種不同類型的靶材,適用于不同的應用需求。
5. **低溫沉積**:濺射過程通常在較低溫度下進行,因此適合一些熱敏材料的沉積。
6. **量膜**:濺射技術可制作高致密性、低缺陷的薄膜,適合高性能電子元件和光電器件等。
7. **大面積沉積**:有些濺射靶可以實現大面積的一次性沉積,適合工業化生產。
8. **功能薄膜制備**:可以用于制備功能性薄膜,如透明導電氧化物(TCO)、磁性薄膜及其他材料。
濺射靶的技術進步與材料科學的發展密切相關,對推動新材料的研究和應用起到了重要作用。
桌面型磁控濺射鍍膜儀廣泛應用于多個領域,主要包括:
1. **電子元件制造**:在半導體器件、傳感器、光電器件的生產中,用于沉積薄膜。
2. **光學器件**:用于光學涂層的制備,如鏡頭、光學濾光片等,以優化光的傳輸和反射特性。
3. **太陽能電池**:在光伏材料的生產中,沉積導電和光吸收層。
4. **防腐涂層**:用于金屬表面的保護性涂層,提升耐磨性和防腐蝕性。
5. **功能性薄膜**:例如,電池、電容器及其他儲能器件中的功能薄膜。
6. **研究和開發**:高校和科研機構用于材料科學、物理、化學等領域的研究,探索新材料和新技術。
7. **生物醫用材料**:用于制備生物相容性涂層,如器械表面的生物處理。
由于其高精度和可控性,桌面型磁控濺射鍍膜儀在上述領域均有著重要的應用價值。
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