真空腔室Ф246×260mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵國產(chǎn)FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規(guī)全量程真空規(guī)
蒸發(fā)源電阻蒸發(fā)源(兼容金屬與有機蒸發(fā))3組,可切換使用
蒸發(fā)電源2000W直流蒸發(fā)電源1臺,供3組蒸發(fā)源切換使用
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉(zhuǎn)功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預(yù)留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
電阻蒸鍍機是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,主要利用電阻加熱的方式將材料轉(zhuǎn)化為蒸氣,然后在基材表面沉積形成薄膜。其工作原理通常包括以下幾個步驟:
1. **材料準備**:將待蒸發(fā)的材料放置在電阻加熱器上,通常是金屬或合金材料。
2. **加熱**:通過電阻加熱器通電,材料在高溫下蒸發(fā),形成氣態(tài)的原材料。
3. **沉積**:蒸汽擴散到基材表面,并冷凝形成薄膜。基材可以是玻璃、塑料、金屬等。
4. **控制**:設(shè)備通常配備溫度和壓力傳感器,以確保蒸鍍過程的穩(wěn)定性和均勻性。
電阻蒸鍍機廣泛應(yīng)用于光學膜、電子元件、太陽能電池等領(lǐng)域,其優(yōu)勢包括較高的沉積速率、良好的膜質(zhì)量和較大的適用材料范圍。
有機蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜材料的沉積設(shè)備,主要應(yīng)用于電子、光電、光學等領(lǐng)域。其功能主要包括:
1. **薄膜沉積**:通過加熱有機材料,使其蒸發(fā)并沉積在基板表面,形成均勻的薄膜。
2. **控制膜厚**:可以控制沉積的膜厚度,以滿足應(yīng)用需求。
3. **大面積涂層**:適用于大尺寸基板的涂層工藝,滿足工業(yè)生產(chǎn)需求。
4. **高真空環(huán)境**:在高真空條件下進行鍍膜,減少雜質(zhì),提升膜層質(zhì)量。
5. **材料適應(yīng)性**:可用于多種有機材料的鍍膜,如聚合物、染料、液晶等。
6. **多層膜結(jié)構(gòu)**:能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的沉積,適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件。
7. **智能控制**:現(xiàn)代設(shè)備通常配備的控制系統(tǒng),可以自動調(diào)節(jié)參數(shù),提升生產(chǎn)效率和膜的均勻性。
通過以上功能,有機蒸發(fā)鍍膜機在太陽能電池、顯示器、傳感器等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。

桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學、光學、電子工程以及其他領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:通過熱蒸發(fā)的方法,將材料加熱到其蒸發(fā)點,使其以蒸氣形式噴發(fā)并在基材表面凝結(jié)形成薄膜。
2. **膜厚控制**:設(shè)備通常配備有膜厚監(jiān)測系統(tǒng)(如晶體振蕩器),可實時監(jiān)測沉積膜的厚度,確保膜厚達到預(yù)期要求。
3. **材料選擇**:可以使用多種材料進行沉積,如金屬、氧化物、氮化物等,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
4. **真空環(huán)境**:設(shè)備在高真空環(huán)境中操作,以減少氣體分子對沉積薄膜的干擾,提高膜的質(zhì)量。
5. **基材加熱**:某些設(shè)備可以加熱基材,提高材料的附著力和薄膜的均勻性,改善薄膜質(zhì)量。
6. **多層沉積**:能夠進行多層膜的沉積,適用于需要不同功能層疊加的應(yīng)用。
7. **閥門控制和氣體引入**:可以控制沉積環(huán)境中的氣體成分,以便進行特定的化學反應(yīng)或改善膜的性能。
8. **用戶界面**:一般配備有友好的用戶界面,方便操作人員設(shè)置參數(shù)、監(jiān)控過程和記錄數(shù)據(jù)。
這種設(shè)備通常適合實驗室研究和小規(guī)模生產(chǎn),因其體積小、操作簡單而受到廣泛歡迎。

小型熱蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光學、電子、材料科學等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:能夠在基材表面沉積金屬、氧化物、氮化物等材料,以形成薄膜。
2. **控制膜厚**:通過調(diào)節(jié)蒸發(fā)時間和速率,可以控制薄膜的厚度,滿足不同應(yīng)用的需要。
3. **高真空環(huán)境**:通常配備真空系統(tǒng),能夠在高真空條件下進行蒸發(fā),有效減少氣體分子對薄膜的影響,提高膜層質(zhì)量。
4. **多種材料兼容**:支持多種蒸發(fā)材料的使用,包括鋁、銀、金、硅等,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
5. **均勻沉積**:通過合理設(shè)計蒸發(fā)源的布局,實現(xiàn)薄膜在基材上的均勻沉積。
6. **小型化設(shè)計**:體積小、重量輕,適合實驗室、小規(guī)模生產(chǎn)等場合,便于搬運和操作。
7. **自動化控制**:一些設(shè)備配備了計算機控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)自動化操作,提率和重復(fù)性。
8. **多種基材兼容**:能夠處理不同材料和形狀的基材,如玻璃、塑料、陶瓷等。
總之,小型熱蒸發(fā)鍍膜機是一種 versatile 的設(shè)備,適用于科學研究和工業(yè)應(yīng)用中的薄膜制備。

束源爐(或稱束流反應(yīng)堆)是一種利用粒子束產(chǎn)生高能粒子的設(shè)備,主要用于研究和應(yīng)用于核物理、材料科學、醫(yī)學等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **粒子加速**:束源爐能夠加速粒子到高能狀態(tài),為后續(xù)的實驗提供足夠的能量。
2. **粒子束應(yīng)用**:通過產(chǎn)生高能粒子束,束源爐可以用于材料的改性、診斷以及產(chǎn)生放射性同位素。
3. **核反應(yīng)研究**:支持核物理研究,例如基本粒子的相互作用、核結(jié)構(gòu)和反應(yīng)機制等。
4. **醫(yī)學應(yīng)用**:在放射和核醫(yī)學中用于產(chǎn)生適用于的放射性同位素。
5. **探測**:用于開發(fā)和測試探測器及相關(guān)技術(shù)。
總結(jié)來說,束源爐是在科學研究和工業(yè)應(yīng)用中重要的工具,具有多種功能。
手套箱一體機(Glove Box)是一種封閉式操作設(shè)備,廣泛應(yīng)用于需要在無塵、無氧、無污染環(huán)境下進行實驗或操作的領(lǐng)域。其主要適用范圍包括:
1. **化學實驗室**:用于處理敏感化學品或危險化學品,防止氣體泄漏或與空氣中的水分和氧氣反應(yīng)。
2. **材料科學**:在合成新材料、存儲和制造高敏感性材料(如電池材料、光電材料)時使用,避免與空氣接觸。
3. **生物醫(yī)學研究**:在無菌環(huán)境下進行細胞培養(yǎng)、基因編輯等實驗,確保樣品不受外界污染。
4. **制藥工業(yè)**:用于藥物的研發(fā)與生產(chǎn)過程,確保符合嚴格的無菌和無塵要求。
5. **半導體行業(yè)**:在集成電路和電子元件的生產(chǎn)過程中,避免灰塵和雜質(zhì)影響產(chǎn)品質(zhì)量。
6. **核能和放射性材料研究**:用于安全處理放射性物質(zhì),防止泄漏。
7. **環(huán)境科學**:用于處理和分析污染物樣本,確保實驗條件可控。
總之,手套箱一體機適合需要高度控制環(huán)境的科研和工業(yè)應(yīng)用。
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