真空腔室Ф246×228mm,304優質不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優成
真空規全量程真空規,上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統PLC+觸摸屏智能控制系統1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調,旋轉:0-20r/min可調,可加熱至300℃
膜厚監控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
靶材通常指用于某種實驗或應用中,作為靶子或目標的材料。在不同的領域,靶材的具體含義和用途可能略有不同:
1. **物理和粒子物理學**:靶材可以是用于粒子碰撞實驗中的物質,粒子通過撞擊靶材產生反應,以研究基本粒子及其相互作用。
2. **光譜學**:在光源或激光實驗中,靶材可能用于激發或產生特定的光譜信號。
3. **材料科學**:靶材還可以用于薄膜沉積技術(如磁控濺射),在該過程中靶材被靶向發射以形成薄膜。
4. **激光加工**:靶材亦可用于激光打標、切割等加工方法,通過激光光束對靶材進行作用。
您是否有興趣了解某一特定領域的靶材?
離子濺射儀是一種用于材料表面分析和處理的設備,主要功能包括:
1. **材料沉積**:可以用于在基材表面上沉積薄膜,常見于半導體、光電子器件和表面涂層的制造。
2. **表面分析**:通過濺射過程,可以分析材料的成分和結構,常用于質譜分析和表面分析技術,如時間飛行質譜(TOF-MS)。
3. **清潔和去除涂層**:可以去除材料表面的污染物或舊涂層,為后續處理做好準備。
4. **再結晶和表面改性**:可以通過離子轟擊改變材料的表面狀態,如增加薄膜的粘附力、改善光學性能等。
5. **刻蝕**:在微電子工藝中,用于刻蝕特定區域,形成所需的圖案和結構。
6. **離子 implantation**:將離子注入材料中,以改變其電學、光學或機械性質。
離子濺射儀在材料科學、微電子、納米技術等領域有著廣泛的應用。

離子濺射儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造和表面分析等領域的設備,其主要特點包括:
1. **高精度**:離子濺射儀能夠在原子或分子層級上進行物質的去除和沉積,具有的控制精度,適用于微米和納米級別的加工。
2. **多功能性**:該儀器可用于薄膜的沉積、表面清洗、材料分析等多種用途,適應性強。
3. **層次控制**:可以實現對材料沉積厚度的控制,可以逐層沉積不同材料,適合制備多層膜結構。
4. **較強的適應性**:離子源與靶材的組合可以根據需要進行調整,使得該儀器可以處理多種不同類型的材料。
5. **真空環境**:離子濺射在真空環境中進行,有助于減少氣體分子對沉積過程的干擾,提高沉積質量。
6. **可調節能量**:離子源可以調節離子的能量,從而控制濺射過程中的粒子能量,有利于改善沉積膜的性質。
7. **低溫沉積**:相較于傳統的熱沉積方法,離子濺射在較低溫度下即可進行,能夠減少熱敏感材料的損傷。
8. **表面改性**:通過選擇合適的離子種類和能量,可以對材料表面進行改性,如提高表面硬度或改變表面化學性質。
總的來說,離子濺射儀因其高精度、多功能和良好的適應性,在現代材料科學和工程中發揮著重要作用。

靶材通常是在物理、化學和材料科學等領域中使用的一種材料,主要具有以下功能:
1. **靶向作用**:在粒子物理實驗中,靶材可用于吸收入射粒子并產生可觀測的反應,如在粒子加速器中用作靶。
2. **材料沉積**:在薄膜沉積技術中,靶材用于將材料蒸發或濺射到基底上,形成薄膜。這在電子器件、光學涂層等應用中重要。
3. **反應介質**:在化學反應中,靶材可以作為反應物,產生相應的化學反應或物理變化。
4. **能量傳輸**:靶材能夠接收入射粒子的能量并將其轉化為其他形式的能量,或以其他方式傳遞能量。
5. **示蹤和檢測**:在放射性同位素研究中,靶材可以用作示蹤劑,幫助檢測和分析現象。
總之,靶材在科學研究和工業應用中扮演著重要的角色,其具體功能根據應用場景的不同而有所差異。

桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種廣泛應用于材料科學、電子學、光學等領域的設備,其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:可在基材上沉積薄膜,形成不同厚度和成分的薄膜材料。
2. **材料多樣性**:支持多種靶材(如金屬、合金、氧化物等),能夠制作出不同種類的薄膜。
3. **優良的膜質量**:采用磁控濺射技術,可以有效提高薄膜的均勻性和致密性,提高膜的性能。
4. **可調節參數**:可以調節濺射功率、氣體流量、基片溫度等參數,以滿足不同工藝要求。
5. **大面積鍍膜**:由于其設計,可以適用于大面積基片的鍍膜需求,在科研和工業生產中具有較高的應用價值。
6. **過程控制**:配備監測系統,可以實時監測膜厚度、氣氛等,有助于控制沉積過程。
7. **易于操作**:桌面型的設計使得設備更加緊湊,操作相對簡單,適合實驗室環境使用。
8. **真空技術**:工作過程中保持真空環境,減少污染,提高沉積質量。
這種設備在半導體器件制造、光學涂層、傳感器、太陽能電池等多個領域具有重要應用價值。
小型磁控濺射鍍膜機是一種常見的薄膜沉積設備,廣泛應用于多個領域。其適用范圍主要包括:
1. **材料科學**:用于研究新材料的特性和薄膜的性能,可以制備金屬、合金和合成材料的薄膜。
2. **電子器件**:在半導體、光電器件等領域,常用于制造電極、保護膜和介電層等。
3. **光學 coating**:用于光學元件的鍍膜,如鏡頭、光學濾光片、防反射涂層等。
4. **太陽能電池**:用于鍍膜太陽能電池的材料,提升其光電轉換效率。
5. **傳感器**:在傳感器的制造中用于沉積感應膜,提升其性能和穩定性。
6. **飾品與裝飾品**:用于金屬表面的裝飾性鍍膜,提高美觀及防腐蝕性能。
7. **生物醫學**:在生物材料和器械的表面改性中,改善表面特性,促進生物相容性。
8. **實驗室研究**:小型設備適合于科研實驗室進行材料合成與性質測試。
小型磁控濺射鍍膜機因其操作靈活、適用性廣泛,受到許多行業和科研機構的歡迎。
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